A、曝光時(shí)試件上的電焊濺渣
B、底片顯影前被定影液濺污
C、底片被顯影液濺污
D、底片被水濺污
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你可能感興趣的試題
A、底片盒漏光
B、增感屏不潔
C、水濺污了底片
D、顯影不均勻
A、曝光時(shí)間不正確
B、試件與底片距離過(guò)大
C、曝光時(shí)所用的鉛箔增感屏損壞
D、過(guò)度暴露在紫外線下
A、缺陷
B、瑕疵
C、錯(cuò)誤顯示
D、無(wú)關(guān)顯示
A、錯(cuò)誤顯示
B、無(wú)關(guān)顯示或非相關(guān)顯示
C、有關(guān)顯示或相關(guān)顯示
D、瑕疵
A、錯(cuò)誤顯示
B、無(wú)關(guān)顯示或非相關(guān)顯示
C、有關(guān)顯示或相關(guān)顯示
D、瑕疵
最新試題
射線經(jīng)過(guò)一個(gè)半價(jià)層后,其()衰減一半。
采用X射線機(jī)對(duì)某一工件探傷時(shí),焦距為1m,曝光時(shí)間為6min,其余條件均不變,曝光時(shí)間改為3min時(shí)透照焦距應(yīng)改為()
關(guān)于聲壓往復(fù)透射率,以下敘述正確的是()
感應(yīng)電流法磁化工件主要采用()
選擇滲透探傷方法時(shí),對(duì)于疲勞裂紋、磨削裂紋及其它微小裂紋應(yīng)優(yōu)先選用()
著色滲透劑應(yīng)具有()性能。
在探傷靈敏度確定后,缺陷的當(dāng)量大?。ǎ?/p>
關(guān)于聲波的指向性和指向角,正確的是()
顯示試件某一縱斷面的聲象的顯示方式為()
射線照像底片上產(chǎn)生黑色樹(shù)枝狀花紋的原因是()