A.在銅導(dǎo)線周圍形成一個(gè)磁場(chǎng);
B.在銅導(dǎo)線中建立磁極;
C.使銅導(dǎo)線磁化;
D.不能產(chǎn)生磁場(chǎng)
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A.磁性材料的較強(qiáng);
B.非磁性材料的較強(qiáng);
C.隨材料磁導(dǎo)率變化;
D.磁場(chǎng)強(qiáng)度相同
A.磁通密度是正交平面上的磁力線密度,磁感應(yīng)強(qiáng)度是非正交平面上的磁力線密度;
B.磁通密度是非正交平面上的磁力線密度,磁感應(yīng)強(qiáng)度是正交平面上的磁力線密度;
C.磁通密度與磁感應(yīng)強(qiáng)度無(wú)明顯區(qū)別;
D.上述三點(diǎn)都不對(duì)
A.磁導(dǎo)率低;
B.剩磁強(qiáng);
C.矯頑力大;
D.以上都是
A.電流形成的磁場(chǎng)與電流方向平行;
B.電流從一根導(dǎo)體上通過(guò)時(shí),用右手定則確定磁場(chǎng)方向
C.通電導(dǎo)體周圍的磁場(chǎng)強(qiáng)度與電流大小無(wú)關(guān);
D.通電導(dǎo)體周圍的磁場(chǎng)強(qiáng)度與電流大小無(wú)關(guān)
A.線圈內(nèi)緣;
B.線圈外緣;
C.線圈中心;
D.線圈端頭
最新試題
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:剩磁應(yīng)不大于0.3mT(240A/m)。
熒光磁粉檢測(cè)時(shí),磁痕的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行,暗室或暗處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于20Lx。
一般說(shuō)來(lái),進(jìn)行了周向磁化工件的退磁,應(yīng)先進(jìn)行一次縱向磁化。
根據(jù)JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,磁粉檢測(cè)前的工件表面準(zhǔn)備包括打磨表面、安裝接觸墊、封堵盲孔和涂敷反差增強(qiáng)劑。
磁粉檢測(cè),所有的磁痕尺寸、數(shù)量和產(chǎn)生部位均應(yīng)記錄并圖示。
采用濕法時(shí),應(yīng)確認(rèn)整個(gè)檢測(cè)面被磁懸液濕潤(rùn)后,再施加磁懸液。
濕法用磁粉粒度一般比干法小。
采用剩磁法時(shí),磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加,一般通電時(shí)間為2~3s。
磁粉檢測(cè)—橡膠鑄型法是采用連續(xù)法檢測(cè)。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同,只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。