問(wèn)答題多圖像平均法為何能去掉噪聲,它的主要難點(diǎn)是什么?
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5.問(wèn)答題直方圖修正有哪兩種方法?二者有何主要區(qū)別與聯(lián)系?
最新試題
平版印刷時(shí)我們應(yīng)該先上墨,再上水。
題型:判斷題
平版曬版中,主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。
題型:判斷題
原版上網(wǎng)點(diǎn)質(zhì)量的黑度低,應(yīng)D<2.0時(shí)應(yīng)重新制版。
題型:判斷題
陽(yáng)圖型PS版防止除臟曝光過(guò)度,可減少二次曝光時(shí)間。
題型:判斷題
曬版時(shí),使用的感光物盡管是光敏物,在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng),有時(shí)卻能在亮室下而不必在暗室下操作。
題型:判斷題
在歷史記錄控制面板中,刪除歷史記錄與撤銷(xiāo)歷史記錄是相同的,歷史記錄被刪除之后也可以恢復(fù)。
題型:判斷題
曬版過(guò)程基本上是一個(gè)物理加工過(guò)程,它涉及到一定的光物理知識(shí)、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識(shí)。
題型:判斷題
燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí),版面照度與燈距平方成反比,照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。
題型:判斷題
鏈接的圖層可以同時(shí)進(jìn)行移動(dòng)、縮放和填充等操作。
題型:判斷題
翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱(chēng)為雙面曬版機(jī),它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行,工作效率高,封閉遮光性能好。
題型:判斷題