判斷題蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。

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2.多項(xiàng)選擇題在酸性氯化銅蝕刻過程出現(xiàn)抗蝕劑破壞的原因可能有（）。

A.溶液溫度過高
B.溶液被污染
C.顯影有余膠
D.傳遞速度過快

3.多項(xiàng)選擇題影響等離子體蝕刻特性好壞的因素包括以下幾個方面（）。

A.等離子體蝕刻系統(tǒng)的形態(tài)
B.等離子體蝕刻的參數(shù)
C.光刻膠
D.待蝕刻薄膜的淀積參數(shù)條件

4.多項(xiàng)選擇題濕法蝕刻具有以下哪些缺點(diǎn)（）。

A.化學(xué)藥品處理時人員會遭遇的安全問題
B.反應(yīng)溶液及去離子水需花費(fèi)較高成本
C.光刻膠會產(chǎn)生附著性問題
D.蝕刻不均勻