A.向后傾斜
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
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你可能感興趣的試題
A.向后傾斜
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.不傾斜
A.腭桿中部與模型應(yīng)有0.8~1mm距離
B.腭桿中部與模型應(yīng)有1.2~1.5mm距離
C.腭桿中部與模型應(yīng)有0.1mm距離
D.腭桿中部與模型應(yīng)有0.3~0.5mm距離
E.腭桿中部與模型應(yīng)完全貼合
A.上型盒包埋時(shí)
B.沖蠟時(shí)
C.樹(shù)脂調(diào)拌時(shí)
D.煮盒時(shí)
E.充膠時(shí)
A.靠近缺隙的基牙、鄰缺隙牙鄰面的倒凹
B.妨礙義齒就位的軟組織倒凹
C.基托覆蓋區(qū)內(nèi)所有余留牙腭側(cè)的倒凹
D.骨尖處、硬區(qū)和未愈合的創(chuàng)口處
E.基牙唇頰側(cè)卡環(huán)固位臂以下的倒凹
A.15~20s
B.20~30s
C.30~45s
D.1min
E.2min
最新試題
鑄件研磨、拋光中應(yīng)遵循的原則是()。
在頜托上標(biāo)記口角線時(shí),上下唇應(yīng)當(dāng)()。
矯治咬上唇的不良習(xí)慣,通常采用的方法是()。
可摘局部義齒修理后最容易折斷的情形是()。
吮咬習(xí)慣是嬰幼兒常見(jiàn)的口腔不良習(xí)慣,當(dāng)患兒有咬上唇習(xí)慣時(shí),易造成的錯(cuò)頜畸形是()。
非貴金屬基底冠的厚度應(yīng)不低于()。
全冠軸面熔模制作時(shí),下頜磨牙頰舌側(cè)最突點(diǎn)在()。
制作底冠蠟型的要點(diǎn)中,錯(cuò)誤的是()。
不會(huì)影響瓷層透明度的操作是()。
進(jìn)行金屬烤瓷冠修復(fù),為了美觀,舌側(cè)應(yīng)選用()。