問答題

某有限公司為大幅度降低噸銅成本、增加效益、充分挖掘潛力和利用閃速爐首次冷修的良機(jī),決定進(jìn)行擴(kuò)建改造工程,將銅的產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a。其中:陽極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a,其中,19萬t/a陽極銅生產(chǎn)陰極銅,2萬t/a陽極銅作為產(chǎn)品直接外銷;陰極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到19萬t/a;硫酸(100%硫酸)產(chǎn)量由49.5萬t/a提高到63.4萬t/a。改擴(kuò)建工程內(nèi)容包括閃速爐熔煉工序、貧化電爐及渣水淬工序、吹煉工序、電解精煉工序、硫酸工序五個(gè)工序的改擴(kuò)建。擴(kuò)建改造工程完成后,硫的回收率由95.15%增至95.5%,SO2排放量由2131t/a降至1948t/a,煙塵排放量由139.7t/a降至133t/a;廢水排放總量為375.4萬t/a,廢水中主要污染物為Cu、As、Pb。工業(yè)水循環(huán)率由91.7%增至92.5%。改擴(kuò)建工程完成后,生產(chǎn)過程中的廢氣主要來源于干燥尾氣、環(huán)保集煙煙氣、陽極爐煙氣、硫酸脫硫尾氣(通過環(huán)保集煙罩收集閃速爐等冶金爐的泄漏煙氣)4個(gè)高架排放源。其污染源主要污染物排放情況見表1。項(xiàng)目冶煉過程中產(chǎn)生水淬渣、轉(zhuǎn)爐渣;污酸、酸性廢水處理過程中產(chǎn)生含砷渣、石膏、中和渣。中和渣浸出試驗(yàn)結(jié)果見表2。

根據(jù)浸出試驗(yàn)結(jié)果,說明中和渣是否為危險(xiǎn)廢物。運(yùn)營期固體廢物應(yīng)如何處置?

你可能感興趣的試題

1.問答題

某有限公司為大幅度降低噸銅成本、增加效益、充分挖掘潛力和利用閃速爐首次冷修的良機(jī),決定進(jìn)行擴(kuò)建改造工程,將銅的產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a。其中:陽極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a,其中,19萬t/a陽極銅生產(chǎn)陰極銅,2萬t/a陽極銅作為產(chǎn)品直接外銷;陰極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到19萬t/a;硫酸(100%硫酸)產(chǎn)量由49.5萬t/a提高到63.4萬t/a。改擴(kuò)建工程內(nèi)容包括閃速爐熔煉工序、貧化電爐及渣水淬工序、吹煉工序、電解精煉工序、硫酸工序五個(gè)工序的改擴(kuò)建。擴(kuò)建改造工程完成后,硫的回收率由95.15%增至95.5%,SO2排放量由2131t/a降至1948t/a,煙塵排放量由139.7t/a降至133t/a;廢水排放總量為375.4萬t/a,廢水中主要污染物為Cu、As、Pb。工業(yè)水循環(huán)率由91.7%增至92.5%。改擴(kuò)建工程完成后,生產(chǎn)過程中的廢氣主要來源于干燥尾氣、環(huán)保集煙煙氣、陽極爐煙氣、硫酸脫硫尾氣(通過環(huán)保集煙罩收集閃速爐等冶金爐的泄漏煙氣)4個(gè)高架排放源。其污染源主要污染物排放情況見表1。項(xiàng)目冶煉過程中產(chǎn)生水淬渣、轉(zhuǎn)爐渣;污酸、酸性廢水處理過程中產(chǎn)生含砷渣、石膏、中和渣。中和渣浸出試驗(yàn)結(jié)果見表2。

全年工作時(shí)間為8000小時(shí),問項(xiàng)目是否滿足SO2總量控制要求?
2.問答題

某有限公司為大幅度降低噸銅成本、增加效益、充分挖掘潛力和利用閃速爐首次冷修的良機(jī),決定進(jìn)行擴(kuò)建改造工程,將銅的產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a。其中:陽極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a,其中,19萬t/a陽極銅生產(chǎn)陰極銅,2萬t/a陽極銅作為產(chǎn)品直接外銷;陰極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到19萬t/a;硫酸(100%硫酸)產(chǎn)量由49.5萬t/a提高到63.4萬t/a。改擴(kuò)建工程內(nèi)容包括閃速爐熔煉工序、貧化電爐及渣水淬工序、吹煉工序、電解精煉工序、硫酸工序五個(gè)工序的改擴(kuò)建。擴(kuò)建改造工程完成后,硫的回收率由95.15%增至95.5%,SO2排放量由2131t/a降至1948t/a,煙塵排放量由139.7t/a降至133t/a;廢水排放總量為375.4萬t/a,廢水中主要污染物為Cu、As、Pb。工業(yè)水循環(huán)率由91.7%增至92.5%。改擴(kuò)建工程完成后,生產(chǎn)過程中的廢氣主要來源于干燥尾氣、環(huán)保集煙煙氣、陽極爐煙氣、硫酸脫硫尾氣(通過環(huán)保集煙罩收集閃速爐等冶金爐的泄漏煙氣)4個(gè)高架排放源。其污染源主要污染物排放情況見表1。項(xiàng)目冶煉過程中產(chǎn)生水淬渣、轉(zhuǎn)爐渣;污酸、酸性廢水處理過程中產(chǎn)生含砷渣、石膏、中和渣。中和渣浸出試驗(yàn)結(jié)果見表2。

干燥尾氣、環(huán)保集煙煙氣、硫酸脫硫尾氣是否達(dá)標(biāo)排放?
3.問答題

某有限公司為大幅度降低噸銅成本、增加效益、充分挖掘潛力和利用閃速爐首次冷修的良機(jī),決定進(jìn)行擴(kuò)建改造工程,將銅的產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a。其中:陽極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a,其中,19萬t/a陽極銅生產(chǎn)陰極銅,2萬t/a陽極銅作為產(chǎn)品直接外銷;陰極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到19萬t/a;硫酸(100%硫酸)產(chǎn)量由49.5萬t/a提高到63.4萬t/a。改擴(kuò)建工程內(nèi)容包括閃速爐熔煉工序、貧化電爐及渣水淬工序、吹煉工序、電解精煉工序、硫酸工序五個(gè)工序的改擴(kuò)建。擴(kuò)建改造工程完成后,硫的回收率由95.15%增至95.5%,SO2排放量由2131t/a降至1948t/a,煙塵排放量由139.7t/a降至133t/a;廢水排放總量為375.4萬t/a,廢水中主要污染物為Cu、As、Pb。工業(yè)水循環(huán)率由91.7%增至92.5%。改擴(kuò)建工程完成后,生產(chǎn)過程中的廢氣主要來源于干燥尾氣、環(huán)保集煙煙氣、陽極爐煙氣、硫酸脫硫尾氣(通過環(huán)保集煙罩收集閃速爐等冶金爐的泄漏煙氣)4個(gè)高架排放源。其污染源主要污染物排放情況見表1。項(xiàng)目冶煉過程中產(chǎn)生水淬渣、轉(zhuǎn)爐渣;污酸、酸性廢水處理過程中產(chǎn)生含砷渣、石膏、中和渣。中和渣浸出試驗(yàn)結(jié)果見表2。

計(jì)算環(huán)境空氣評(píng)價(jià)等級(jí)、確定評(píng)價(jià)范圍和環(huán)境空氣現(xiàn)狀監(jiān)測(cè)點(diǎn)數(shù)。各污染源SO2最大地面濃度及距離詳見表3。

4.問答題

順達(dá)公司擬在本省某開發(fā)區(qū)內(nèi)建設(shè)一座電子元器件廠。該省級(jí)開發(fā)區(qū)有集中的污水處理廠和供熱系統(tǒng),其他環(huán)?;A(chǔ)設(shè)施也較完善,目前開發(fā)區(qū)污水處理廠的設(shè)計(jì)處理能力為10萬m3/d,實(shí)際處理能力為6.5萬m3/d。污水處理廠接管水質(zhì)要求為COD350mg/L、NH3-N25mg/L、TP6mg/L,其他水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)當(dāng)滿足《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB8978-1996)表1及表4三級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn)(氟化物20mg/L、總銅2.0mg/L、總砷0.5mg/L)。電子元器件生產(chǎn)以硅片為基材,經(jīng)氨水清洗、氫氟酸或硫酸蝕刻砷化氫摻雜、硫酸銅化學(xué)鍍等工序得到最終產(chǎn)品。其中摻雜工序和化學(xué)鍍工序流程如圖1所示。經(jīng)過工程分析可知,擬建項(xiàng)目在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的清洗廢水、蝕刻廢水、尾氣洗滌塔廢水、化學(xué)鍍廢水將經(jīng)過預(yù)處理后進(jìn)入中和池,中和池出水排入開發(fā)區(qū)污水處理廠,廢水預(yù)處理后的情況參見表1。氨水清洗工序產(chǎn)生的清洗廢水中含氨量為0.02%,為降低廢水中氨的濃度,擬采取熱交換吹脫法除氨,氨的吹脫效率80%,吹脫出的氨經(jīng)15m高排氣筒排放。《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB14554-93)中規(guī)定:15m高排氣筒氨排放量限值為4.9kg/h。

評(píng)價(jià)本工程熱交換吹脫法除氨廢氣達(dá)標(biāo)情況,給出廢氣排放的控制措施。
5.問答題

順達(dá)公司擬在本省某開發(fā)區(qū)內(nèi)建設(shè)一座電子元器件廠。該省級(jí)開發(fā)區(qū)有集中的污水處理廠和供熱系統(tǒng),其他環(huán)保基礎(chǔ)設(shè)施也較完善,目前開發(fā)區(qū)污水處理廠的設(shè)計(jì)處理能力為10萬m3/d,實(shí)際處理能力為6.5萬m3/d。污水處理廠接管水質(zhì)要求為COD350mg/L、NH3-N25mg/L、TP6mg/L,其他水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)當(dāng)滿足《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB8978-1996)表1及表4三級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn)(氟化物20mg/L、總銅2.0mg/L、總砷0.5mg/L)。電子元器件生產(chǎn)以硅片為基材,經(jīng)氨水清洗、氫氟酸或硫酸蝕刻砷化氫摻雜、硫酸銅化學(xué)鍍等工序得到最終產(chǎn)品。其中摻雜工序和化學(xué)鍍工序流程如圖1所示。經(jīng)過工程分析可知,擬建項(xiàng)目在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的清洗廢水、蝕刻廢水、尾氣洗滌塔廢水、化學(xué)鍍廢水將經(jīng)過預(yù)處理后進(jìn)入中和池,中和池出水排入開發(fā)區(qū)污水處理廠,廢水預(yù)處理后的情況參見表1。氨水清洗工序產(chǎn)生的清洗廢水中含氨量為0.02%,為降低廢水中氨的濃度,擬采取熱交換吹脫法除氨,氨的吹脫效率80%,吹脫出的氨經(jīng)15m高排氣筒排放。《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB14554-93)中規(guī)定:15m高排氣筒氨排放量限值為4.9kg/h。

列出摻雜工序和化學(xué)鍍廢水預(yù)處理生產(chǎn)的污泥處置要求。