單項(xiàng)選擇題在義齒基托覆蓋區(qū)內(nèi),不需要緩沖模型的部位是()。
A.上頜腭隆突區(qū)
B.下頜舌隆突
C.下頜舌骨嵴區(qū)
D.上頜結(jié)節(jié)
E.下頜舌側(cè)翼緣區(qū)
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1.單項(xiàng)選擇題支架模型緩沖時(shí)在缺牙區(qū)牙槽嵴表面和需塑料包埋的連接體相應(yīng)部位表面均應(yīng)襯墊薄層蠟片,其厚度一般為()。
A.0.5~0.7mm
B.0.1~0.2mm
C.1.0~1.5mm
D.2.0~3.0mm
E.3.0~5.0mm
2.單項(xiàng)選擇題采用正硅酸乙酯包埋料包埋,其最佳粉液比為()。
A.3:1
B.1:1
C.4:1
D.3:2
E.5:1
3.單項(xiàng)選擇題配制石膏、石英系外包埋料,石膏與石英砂的最佳比例是()。
A.1:1
B.4:1
C.1:2
D.1:3
E.1:4
4.單項(xiàng)選擇題烘烤鑄圈時(shí)升溫不能過快,從室溫升至400℃,升溫時(shí)間不得低于()。
A.20min
B.30min
C.10min
D.60min
E.2h
5.單項(xiàng)選擇題當(dāng)烘烤鑄圈的溫度升至400℃時(shí),尚需維持()。
A.10min
B.30min
C.5min
D.1h
E.2h
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義齒行硬咀嚼功能的面是()
題型:單項(xiàng)選擇題
倒凹集中在左側(cè),義齒應(yīng)()
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題型:單項(xiàng)選擇題