A.溶液中氫氧根離子濃度的對(duì)數(shù)
B.溶液中氫離子活度的對(duì)數(shù)
C.溶液中氫離子活度的負(fù)對(duì)數(shù)
D.溶液中氫離子濃度的對(duì)數(shù)
E.溶液中氫離子濃度的負(fù)對(duì)數(shù)
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A.防止天平盤的擺動(dòng)
B.減少碼瑙刀口的磨損
C.增加天平的穩(wěn)定性
D.加快稱量速度
E.防止讀數(shù)漂移
A.還原糖
B.轉(zhuǎn)化糖
C.變旋糖
D.葡萄糖
E.果糖
A.沉淀滴定法
B.離子選擇電極法
C.火焰光度法
D.發(fā)射光譜法
E.原子吸收光譜法
A.邊滴定邊快速搖動(dòng)
B.加入過(guò)量KI,并在室溫和避免陽(yáng)光直射的條件下滴定
C.在70~80℃恒溫條件下滴定
D.滴定一開(kāi)始就加入淀粉指示劑
E.滴定開(kāi)始前加淀粉
A.使沉淀作用完全
B.加快沉淀速度
C.使小晶體轉(zhuǎn)化為大晶體
D.除去表面吸附的雜質(zhì)
E.以上都木是
最新試題
《工作場(chǎng)所物理因素職業(yè)接觸限值》中規(guī)定接觸連續(xù)波4h的超高頻輻射接觸限值為()。
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