單項(xiàng)選擇題以相同條件透照某工件,若焦距縮短20%,要達(dá)到同樣的黑度的底片,曝光時(shí)間可以減少()。
A、64%
B、36%
C、20%
D、80%
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1.單項(xiàng)選擇題溴化鉀是()的一種。
A、抑制劑
B、顯影劑
C、加速劑
D、保護(hù)劑
2.單項(xiàng)選擇題顯影液中的抑制劑通常用()。
A、亞硫酸鈉
B、溴化鉀
C、菲尼酮
D、碳酸鈉
3.單項(xiàng)選擇題溴化鉀在顯影液中的作用是()。
A、加速顯影作用
B、保護(hù)顯影作用
C、抑制灰霧生成
D、堅(jiān)膜作用
4.單項(xiàng)選擇題底片對(duì)比度與工件對(duì)比度和()有關(guān)。
A、感光度
B、管電流
C、膠片反差系數(shù)
D、以上都對(duì)
5.單項(xiàng)選擇題在距離1米處的劑量率為67.5R/h的50Ci鈷60射源(50x1.35=67.5)經(jīng)過(guò)2個(gè)半衰期后將衰減為()Ci。
A、25
B、12.5
C、6.25
D、3.125
最新試題
缺陷檢測(cè)即通常所說(shuō)的渦流探傷主要影響因素包括()、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
無(wú)損探傷檢測(cè)采用的黑光燈和濾光片的作用是使其輻射波長(zhǎng)范圍為()mm,峰值波長(zhǎng)為365mm。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
缺陷愈大,所遮擋的聲束也愈多,底波波高也就愈低,這就有可能用缺陷波高與底波波高之比來(lái)表示缺陷的()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
渦流檢測(cè)線圈是在被檢測(cè)導(dǎo)電材料或零件表面及近表面激勵(lì)產(chǎn)生()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
掃查方式一般視試件的()而定。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
磁性測(cè)厚技術(shù)包括機(jī)械式和()兩種測(cè)量方法。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
各類渦流檢測(cè)儀器的工作原理和()是相同的。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
在遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū),當(dāng)缺陷比聲束截面小時(shí),缺陷波高與缺陷面積成()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
渦流檢測(cè)線圈的互感線圈一般由()構(gòu)成。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
渦流檢測(cè)中的對(duì)比試樣的()和材質(zhì)相對(duì)被檢測(cè)產(chǎn)品必須具有代表性。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題