單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原時(shí)，低變升溫，（）穩(wěn)定后，才開(kāi)始配氫氣，以防超溫

A、時(shí)間
B、循環(huán)系統(tǒng)流速
C、溫度
D、脫水


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1.多項(xiàng)選擇題溶液系統(tǒng)設(shè)備進(jìn)行靜釩化，是指對(duì)（）的釩化處理

A、再生塔頂部
B、再生塔中部
C、再生塔底部
D、溶液再沸器

2.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原初期氫濃度應(yīng)為（）

A、0.1%～0.5%
B、1%
C、1.0%～5.0%
D、2%

3.多項(xiàng)選擇題工藝氣切入吸收塔時(shí)，要密切觀察（）的液位，以防止工藝氣帶溶液出吸收塔

A、吸收塔
B、粗氫分液罐
C、兩塔
D、再生塔

4.單項(xiàng)選擇題工藝氣切入吸收塔前，為防止塔內(nèi)溶液倒流出塔，下列操作方法正確的是（）

A、適當(dāng)提高溶液循環(huán)量
B、適當(dāng)降低液位
C、適當(dāng)降低溶液循環(huán)量
D、適當(dāng)提高液位

5.多項(xiàng)選擇題甲烷化催化劑還原時(shí)，還原介質(zhì)可采用（）

A、脫硫氣
B、粗氫氣
C、轉(zhuǎn)化氣
D、純氫氣