A.摘要中的打印錯誤
B.權(quán)利要求書中的錯別字
C.權(quán)利要求書中的技術(shù)術(shù)語
D.說明書中的語法錯誤
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A.在評價發(fā)明是否具備創(chuàng)造性時,不僅要考慮發(fā)明的技術(shù)方案本身,還要考慮發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域、所解決的技術(shù)問題和所產(chǎn)生的技術(shù)效果
B.發(fā)明的某一技術(shù)特征與最接近的現(xiàn)有技術(shù)的對應(yīng)特征有區(qū)別,則該發(fā)明必然具備創(chuàng)造性
C.對創(chuàng)造性的評價無需考慮創(chuàng)立發(fā)明的途徑
D.發(fā)明提供了一種技術(shù)構(gòu)思不同的技術(shù)方案,其技術(shù)效果能夠基本上達到現(xiàn)有技術(shù)的水平,則可以說明該發(fā)明具有顯著的進步
A.該發(fā)明創(chuàng)造屬于職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造
B.該發(fā)明創(chuàng)造申請專利的權(quán)利屬于甲公司
C.甲公司就該發(fā)明創(chuàng)造申請發(fā)明專利的,張某有權(quán)在專利文件中寫明自己是發(fā)明人
D.該發(fā)明創(chuàng)被授予專利權(quán)后,張某享有獲得獎勵的權(quán)利
一件發(fā)明專利的權(quán)利要求如下:
“1.一種襯底組合物,包含J和K,其中J的濃度小于3.5%,K的濃度大于0.1%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底組合物,其中J的濃度為1.0%~3.5%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底組合物,其中K的濃度為0.1%~2.0%。”
下列含有J和K的襯底組合物,哪個落入了該專利的保護范圍?()
A.J濃度為1.0%,K的濃度為0.1%
B.J濃度為0.5%,K的濃度為0.2%
C.J濃度為4.0%,K的濃度為1.0%
D.J濃度為3.5%,K的濃度為2.0%
A.法國FR、西班牙ES、奧地利AT
B.歐洲專利局EP、英國UK、韓國KR
C.澳大利亞AU、瑞士CH、俄羅斯聯(lián)邦RU
D.日本JP、瑞典SE、世界知識產(chǎn)權(quán)組織IB
A.該產(chǎn)品和設(shè)備的技術(shù)方案能享有優(yōu)先權(quán),方法的技術(shù)方案不能享有優(yōu)先權(quán)
B.該產(chǎn)品和方法的技術(shù)方案能享有優(yōu)先權(quán),設(shè)備的技術(shù)方案不能享有優(yōu)先權(quán)
C.該設(shè)備的技術(shù)方案能享有優(yōu)先權(quán),該產(chǎn)品和方法的技術(shù)方案不能享有優(yōu)先權(quán)
D.該產(chǎn)品、方法和設(shè)備的技術(shù)方案都能享有優(yōu)先權(quán)
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在專利法規(guī)中,下述各項哪些是專門針對實用新型保護對象制定的?()
審查發(fā)明或者實用新型專利申請的實用性時,應(yīng)當遵循的包括下述哪項?()
2001年實施的新專利法對我國原專利法修改的部分有哪些?()
審查員檢索的目的是什么?()
對外觀設(shè)計的理解,下面選項哪個是正確的?()
我國專利法所指的現(xiàn)有技術(shù)是指下列中的哪項?()
下列有關(guān)專利權(quán)人聲明放棄專利權(quán)的敘述,錯誤的是()。
甲于1999年4月1日向國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局提出一項發(fā)明專利申請,公開日為2000年10月1日;乙于2000年4月1日也向國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局提出一項發(fā)明專利申請。下面給出甲乙申請文本的有關(guān)情況,請判斷在下列哪個選項中,乙的申請不能被批準?()
專利局因未收到在先專利申請文件副本而對某申請作出視為未要求外國優(yōu)先權(quán)決定,申請人可以采用哪種程序和辦法,使該優(yōu)先權(quán)繼續(xù)有效?()
有人向你咨詢,在申請目以前有下列情況的,哪種不構(gòu)成法所說的“公開發(fā)表”?()