A.產(chǎn)生61º反射時(shí),縱波入射角與橫波反射角之和為90º
B.產(chǎn)生61º反射時(shí),縱波入射角為61º,橫波反射角為29º
C.產(chǎn)生61º反射時(shí),縱波入射角為29º,橫波反射角為61º
D.產(chǎn)生61°反射時(shí),其聲程是恒定的
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A.不需要特殊光源,現(xiàn)場操作方便
B.適用于大型工件的探傷,不需要電源和水源
C.具有較高的檢測靈敏度,抗污能力強(qiáng),適用于表面陽極電化處理及鍍鉻工件和維修時(shí)的滲透探傷
D.適用于檢測表面粗糙的工件
A.電源電壓波動(dòng)很大
B.燈泡上有灰塵
C.室溫變化
D.每次用完就關(guān)閉,頻繁開關(guān)
A.缺陷形成的缺口越大,形狀越尖銳,應(yīng)力集中越嚴(yán)重
B.殼體界面不圓程度越大,應(yīng)力集中越嚴(yán)重
C.外加載荷越大,應(yīng)力集中越嚴(yán)重
D.材料脆性越大,應(yīng)力集中越嚴(yán)重
A.缺陷磁痕可永久保留
B.能見斷跟蹤檢測疲勞裂紋的產(chǎn)生和發(fā)展
C.與連續(xù)法配用,檢測靈敏度高
D.檢測速度快,成本低
A.剩磁法與連續(xù)法均能應(yīng)用復(fù)合磁化
B.直流磁場和交流磁場可以構(gòu)成擺動(dòng)磁場
C.兩個(gè)方向不同的直流磁場可以構(gòu)成旋轉(zhuǎn)磁場
D.交叉磁軛分別通以交流電,可以產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場
最新試題
對(duì)于平行于檢測面的缺陷,一般采用()檢測。
通常所謂20KV的X射線是指()
探頭的分辨力()
影響較大的散射線通常來自()
以下哪一種措施不能減小上表面盲區(qū)的影響()
當(dāng)射線穿透任何一物體時(shí),部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()
康普頓效應(yīng)對(duì)射線檢測的影響包括()
若評(píng)片燈亮度增為原來的兩倍,則底片透光度(It/I0)變?yōu)樵瓉淼模ǎ?/p>
在筒身外壁做曲面周向探傷時(shí)(r、R為簡體的內(nèi)、外徑),斜探頭(β為折射角)的臨界角應(yīng)滿足()
底片清晰度與增感屏顆粒度的關(guān)系是()