A.J•kg-1
B.Gy
C.C•kg-1
D.m2
E.J•m2
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A.線性好
B.劑量率依賴性低
C.能響好
D.靈敏度高
E.角度依賴性低
A.射線能量
B.組織深度
C.射野大小
D.源皮距
E.模體散射條件
A.方向性
B.飽和特性
C.桿效應(yīng)
D.極化效應(yīng)
E.復(fù)合效應(yīng)
A.當(dāng)電離輻射照射半導(dǎo)體探測(cè)器時(shí),產(chǎn)生的載流子在電場(chǎng)作用下形成脈沖信號(hào)
B.根據(jù)摻雜情況不同,有N型半導(dǎo)體探測(cè)器和P型半導(dǎo)體探測(cè)器
C.相同體積的半導(dǎo)體探測(cè)器,要比空氣電離室的靈敏度低,這是在放射治療中普遍使用電離室的原因
D.高原輻射會(huì)使半導(dǎo)體探測(cè)器晶格發(fā)生畸變,導(dǎo)致探頭受損,靈敏度下降
E.環(huán)境溫度會(huì)影響半導(dǎo)體探測(cè)器的靈敏度
A.均勻的單一密度體模
B.平坦的體模表面
C.垂直于體模的射線入射
D.非均勻密度體模
E.水體模
最新試題
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。