單項(xiàng)選擇題裝置吸附劑正常跑損的位置為（）。

A.反應(yīng)器
B.閉鎖料斗
C.再生器
D.再生接收器


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1.單項(xiàng)選擇題加熱爐的壓力控制是通過(guò)（）。

A.控制風(fēng)門(mén)
B.控制火的大小
C.控制煙道擋板
D.控制瓦斯壓力

2.單項(xiàng)選擇題加熱爐的壓力應(yīng)控制在（）。

A.50~100KPa
B.0~50KPa
C.-20~20KPa
D.-50~-20Kpa

3.單項(xiàng)選擇題點(diǎn)加熱爐前對(duì)瓦斯的要求為（）。

A.氧含量小于3%
B.氧含量小于5%
C.氧含量小于2%
D.氧含量小于0.5%

4.單項(xiàng)選擇題開(kāi)工向反應(yīng)系統(tǒng)引氫氣為了不影響管網(wǎng)壓力，應(yīng)（）。

A.維持反應(yīng)氮?dú)鈿饷軙r(shí)的較高壓力
B.迅速將反應(yīng)系統(tǒng)壓力提高
C.緩慢用手閥控制充壓速度
D.先充瓦斯再充氫氣

5.單項(xiàng)選擇題還原器向反應(yīng)器送吸附劑是通過(guò)（）。

A.氮?dú)廨斔?br /> B.氫氣輸送
C.斜管輸送
D.斜管溢流