A.是所加電脈沖持續(xù)時(shí)間的函數(shù)
B.是儀器接收器放大特性的函數(shù)
C.是晶片厚度的函數(shù)
D.以上都不對(duì)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.大于入射角
B.小于入射角
C.等于入射角
D.在臨界角之外
A.入射縱波軸線與通過(guò)入射點(diǎn)法線的夾角
B.入射橫波軸線與通過(guò)入射點(diǎn)法線的夾角
C.傾斜晶片與探測(cè)面的夾角
D.入射波軸線與界面的夾角
A.0.2mm
B.0.4mm
C.0.8mm
D.1.6mm
A.水溫升高,聲速變大
B.水溫升高,聲速變小
C.水溫升高,聲速不變
D.呈波浪型變化
A.波束邊沿最大
B.波束中心最大
C.波束中心與邊沿一樣大
D.與波束寬度成反比
最新試題
下列對(duì)耦合劑應(yīng)該具有的特點(diǎn)的描述,不正確的一項(xiàng)是()
若評(píng)片燈亮度增為原來(lái)的兩倍,則底片透光度(It/I0)變?yōu)樵瓉?lái)的()
對(duì)于鉬靶X射線管,在管電壓低于()千伏時(shí)是不會(huì)產(chǎn)生特征X射線的。
一般認(rèn)為表面波探測(cè)的有效深度約為()
底片清晰度和膠片與被照件貼緊程度的關(guān)系是()
原子是元素的具體存在,是體現(xiàn)元素性質(zhì)的最小微粒。
通常所謂20KV的X射線是指()
以下哪一種措施不能減小上表面盲區(qū)的影響()
調(diào)節(jié)掃描速度時(shí),應(yīng)使()同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的水平刻度值。
二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝,以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述,哪一條是錯(cuò)誤的()