A、25
B、70
C、41
D、30
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A、當(dāng)缺陷尺寸小于射源尺寸時(shí),才需要引入σ對(duì)底片對(duì)比度進(jìn)行修正
B、σ值越小,幾何條件對(duì)底片對(duì)比度的影響越大
C、為提高σ值而改變透照布置,常用的方法是增大焦距
D、為提高底片對(duì)比度,應(yīng)盡量采用σ>1的透照布置
A、射源尺寸
B、射源到缺陷的距離
C、缺陷到膠片的距離
D、缺陷相對(duì)于射源和膠片的位置和方向
A、影像放大率Mf數(shù)越小,因而缺陷越難發(fā)現(xiàn)
B、影像放大率Mf數(shù)越大,而缺陷越難觀察
C、形狀修正系數(shù)σ越大,因而缺陷檢出率越低
D、以上都不是
A、為了工作方便,底片與增感屏同裝在底片套內(nèi)時(shí),每次可多裝一些,以后慢慢取用
B、與增感屏同裝在一起的底片有增感屏保護(hù),在較高溫度下也沒有關(guān)系
C、有增感屏保護(hù),可防止底片受潮
D、以上都不對(duì)
A、清潔
B、防潮
C、防止破損
D、以上都對(duì)
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