問(wèn)答題雜質(zhì)在硅中有哪些擴(kuò)散機(jī)制？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題簡(jiǎn)述熱生長(zhǎng)氧化層與沉積氧化層的區(qū)別。
2.問(wèn)答題簡(jiǎn)述硅熱氧化工藝中影響二氧化硅生長(zhǎng)的因素。
3.問(wèn)答題簡(jiǎn)述SiO2在集成電路中的用途。
5.問(wèn)答題簡(jiǎn)述摻氯氧化工藝。
最新試題
目前集成電路版圖設(shè)計(jì)的主流工具有哪些？
題型：?jiǎn)柎痤}
試用電導(dǎo)率為102/（Ω·cm），厚1μm的材料設(shè)計(jì)1kΩ的電阻，設(shè)電阻寬1μm，求其長(zhǎng)。
題型：?jiǎn)柎痤}
根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
題型：?jiǎn)柎痤}
集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)？
題型：?jiǎn)柎痤}
在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。
題型：?jiǎn)柎痤}
從設(shè)計(jì)的觀點(diǎn)出發(fā)，版圖設(shè)計(jì)規(guī)則應(yīng)包括哪些部分？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是電阻率？它的單位是什么（國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)單位制）？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是MOS器件的體效應(yīng)？
題型：?jiǎn)柎痤}
MOS器件存在哪些二階效應(yīng)？
題型：?jiǎn)柎痤}
版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}