單項選擇題離子注入層的深度主要取決于離子注入的()。

A.能量
B.劑量


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1.多項選擇題硅外延片的應用包括()。

A.二極管和三極管
B.電力電子器件
C.大規(guī)模集成電路
D.超大規(guī)模集成電路

2.多項選擇題硅外延生長工藝包括()。

A.襯底制備
B.原位HCl腐蝕
C.生長溫度,生長壓力,生長速度
D.尾氣的處理

3.單項選擇題位錯的形成原因是()。

A.位錯就是由彈性形變造成的
B.位錯就是由重力造成的
C.位錯就是由范性形變造成的
D.以上答案都不對

4.單項選擇題下列晶體管結(jié)構(gòu)中,在晶體管輸出電流很大時常使用的是:()

A、單基極條圖形
B、雙基極條圖形
C、基極和集電極引線孔都是馬蹄形結(jié)構(gòu)
D、梳狀結(jié)構(gòu)

5.單項選擇題腐蝕二氧化硅的水溶液一般是用()

A、鹽酸
B、硫酸
C、硝酸
D、氫氟酸

最新試題

光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。()

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