問答題個(gè)投影曝光系統(tǒng)采用ArF光源，數(shù)值孔徑為0.6，設(shè)k1=0.6，n=0.5，計(jì)算其理論分辨率和焦深。
您可能感興趣的試卷
最新試題
描述電子回旋共振（ECR）。
題型：問答題
什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
題型：問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型：問答題
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？
題型：問答題
例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。
題型：問答題
干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么？
題型：問答題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
題型：問答題
例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。
題型：問答題
例出光刻的8個(gè)步驟，并對每一步做出簡要解釋。
題型：問答題
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？
題型：問答題