博通，總部在美國，全球領先的有線和無線通信半導體公司。
摩托羅拉?？偛吭诿绹晾Z斯州。是全球芯片制造、電子通訊的領導者。
一種新的業(yè)務模式，使IDM廠商外包前沿的設計，同時保持工藝技術開發(fā)。
最新試題
本征吸收
半導體鍍膜通常在真空中進行是為了減少雜質沉積的干擾。
提高光刻最小線寬可以通過提升介質的介電常數(shù)實現(xiàn)。
光電導效應
一般說的14nm工藝線指的是MOSFET中的（）達到了14nm量級
陰極射線致發(fā)光
有A和B兩種單質晶體，我們知道A的晶格常數(shù)是5Å，帶隙是1.2eV，B的晶格常數(shù)是4Å，其帶隙有可能是（）eV
等離子體
激活劑
內(nèi)光電效應