A.一個(gè)月
B.三個(gè)月
C.六個(gè)月
D.1年
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A.使用放大鏡
B.復(fù)制顯示磁痕
C.在顯示形成過程中觀察顯示形成
D.以上都是
A.現(xiàn)場(chǎng)記錄磁痕，如有可能應(yīng)采用復(fù)印法
B.磁痕復(fù)印應(yīng)在磁痕干燥后進(jìn)行
C.用拍照法記錄磁痕時(shí)，須把量尺同時(shí)拍攝進(jìn)去
D.以上都是
A.電阻小
B.探傷面能用肉眼觀察
C.探傷面必須光滑
D.試件必須有磁性
A.1/4磁極間距
B.50mm
C.1/4最大磁極間距
D.15mm
A.70～200mm之間
B.50～200mm之間
C.75～250mm之間
D.以上均可
最新試題
像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同，相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù)．但不少于透照次數(shù)的三分之一。
缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求，標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷，必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考，但不作為合格與否判定的依據(jù)。
超差缺陷是否排除，由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請(qǐng)、檢驗(yàn)蓋章認(rèn)可后送X光檢測(cè)。
X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注，確保定位準(zhǔn)確。
觀察底片時(shí)，為能識(shí)別缺陷圖像，缺陷圖像對(duì)比度與圖像噪聲之比應(yīng)不小于識(shí)別閾值。
對(duì)于圓柱導(dǎo)體的外通過式線圈，其阻抗變大的情況有（）
對(duì)于直徑Φ50mm導(dǎo)管環(huán)焊縫，采用的透照方式為（）。
提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家（）
對(duì)于厚度變化較大的變截面工件透照，只要底片黑度符合GJB1187A的要求時(shí)，就可采用多膠片技術(shù)。
增加工藝性透視有利于保證焊接質(zhì)量，因此盡可能增加工藝性透視次數(shù)。