光電子技術章節(jié)練習(2020.05.27)
來源:考試資料網(wǎng)
參考答案:514nm、532nm:氬離子氣體激光作為泵浦激光,體積龐大;
667nm:可由半導體激光器產(chǎn)生,但在摻鉺光纖... 參考答案:帶像增強器的CCD器件是將光圖像聚焦在像增強器的光電陰極上,再經(jīng)像增強器增強后耦合到電荷耦合器件(CCD)上實現(xiàn)微光攝像... 參考答案:正常輝光放電區(qū);負輝區(qū)和正柱區(qū)(等離子區(qū)) 參考答案:
LOCS為反射式技術,光能利用率遠高于LCD;
耗電少,亮度高,分辨率高,響應快;
CMOS電路是成熟技術,成本低。
參考答案:
(1)外在因素:與發(fā)光過程無關的因素造成的影響;
(2)內(nèi)在因素:與發(fā)光過程有光的因素造成的影響。
參考答案:(1)完全的數(shù)字化顯示,這是DLP獨有的特色。
(2)反射顯示,光能利用率高。
(3)優(yōu)秀的圖像質(zhì)量...