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問(wèn)答題描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。

減少曝光光源的波長(zhǎng)對(duì)提高分辨率非常重要，波長(zhǎng)的越小圖像的分辨率就越高圖像就越精確。

1.問(wèn)答題例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

2.問(wèn)答題在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

一，將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中
二，在后續(xù)工藝中，保護(hù)下面的材料

3.問(wèn)答題例出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。

4.問(wèn)答題解釋什么是暗場(chǎng)掩模板。

暗場(chǎng)掩膜版是指一個(gè)掩膜版，它的石英版上大部分被鉻覆蓋，并且不透光。

5.問(wèn)答題例舉雙大馬士革金屬化過(guò)程的10個(gè)步驟。