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判斷題有光刻膠覆蓋硅片的三個生產區(qū)域分別為光刻區(qū)、刻蝕區(qū)和擴散區(qū)。

1.判斷題光刻的本質是把電路結構復制到以后要進行刻蝕和離子注入的硅片上。

2.判斷題芯片上的物理尺寸特征被稱為關鍵尺寸，即CD。

3.判斷題對正性光刻來說，剩余不可溶解的光刻膠是掩膜版圖案的準確復制。

4.判斷題曝光后烘焙，簡稱后烘，其對傳統(tǒng)I線光刻膠是必需的。

5.判斷題光刻區(qū)使用黃色熒光燈照明的原因是，光刻膠只對特定波長的光線敏感，例如深紫外線和白光，而對黃光不敏感。