判斷題在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，濕法腐蝕是最主要的用來去除表面材料的刻蝕方法。
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根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
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規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么？
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版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？
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晶體管的名字取自于（）和（）兩詞。
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在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。
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利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個(gè)MOS管，已知Cox＝5×10-4pF/μm2，估算柵極電容。
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什么是無源電阻？什么是有源電阻？舉例說明。
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MOS器件按比例縮小后對器件特性有什么影響？
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