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判斷題側(cè)墻用來環(huán)繞多晶硅柵，防止更大劑量的源漏注入過于接近溝道以致可能發(fā)生源漏穿通。

1.判斷題集成電路是由Kilby和Noyce兩人于1959年分別發(fā)明，并共享集成電路的專利。

2.判斷題世界上第一塊集成電路是用硅半導(dǎo)體材料作為襯底制造的。

3.判斷題硅片制造廠可分為六個獨(dú)立的區(qū)域，各個區(qū)域的照明都采用同一種光源以達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)化。

4.判斷題人員持續(xù)不斷地進(jìn)出凈化間，是凈化間沾污的最大來源。

5.判斷題集成電路制造就是在硅片上執(zhí)行一系列復(fù)雜的化學(xué)或者物理操作。簡而言之，這些操作可以分為四大基本類：薄膜制作、刻印、刻蝕和摻雜。