單項(xiàng)選擇題通過(guò)()改變驅(qū)動(dòng)力場(chǎng),借以控制生長(zhǎng)系統(tǒng)中的成核率,這是晶體生長(zhǎng)工藝中經(jīng)常使用的方法。
A、溫度場(chǎng)
B、磁場(chǎng)
C、重力場(chǎng)
D、電場(chǎng)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項(xiàng)選擇題硅的晶格結(jié)構(gòu)和能帶結(jié)構(gòu)分別是().
A.金剛石型和直接禁帶型
B.閃鋅礦型和直接禁帶型
C.金剛石型和間接禁帶型
D.閃鋅礦型和間接禁帶型
2.單項(xiàng)選擇題固相晶化是指非晶硅薄膜在一定的保護(hù)氣中,在()攝氏度以上進(jìn)行常規(guī)熱處理。
A、300
B、400
C、500
D、600
3.單項(xiàng)選擇題如果半導(dǎo)體中存在多種雜質(zhì),在通常情況下,可以認(rèn)為基本上屬于雜質(zhì)飽和電離范圍,其電阻率與雜質(zhì)濃度的關(guān)系可近似表示為().
A.1/(NA-ND.eup
B.1/(NA-ND.eC.up/(NA-ND.e
D.1/(NA+ND.eup
5.問(wèn)答題從微觀上看,漩渦缺陷與錯(cuò)位缺陷有什么區(qū)別?
最新試題
MOS型場(chǎng)效應(yīng)晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關(guān)的。
題型:判斷題
處在飽和工作區(qū)的N型襯底材料MOS管,柵極將失去對(duì)漏源電流的控制作用。
題型:判斷題
柵極材料和半導(dǎo)體襯底材料的功函數(shù)差會(huì)影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
雙極型晶體管使用中,電流最大的極是(),電流最小的極是()。
題型:填空題
第一塊集成電路發(fā)明于()年。
題型:填空題
1947年,()等人制造了第一個(gè)晶體管。
題型:填空題
p型襯底材料的MOS管,其半導(dǎo)體的摻雜濃度增大,閾值電壓隨之增大。
題型:判斷題
理想的MOS管其柵極電壓只會(huì)落在絕緣層和半導(dǎo)體襯底表面層上,柵極分壓占比小于50%。
題型:判斷題
晶體管正常使用過(guò)程中,處于正偏的PN結(jié)是()結(jié),處于反偏的PN結(jié)是()結(jié)。
題型:填空題
實(shí)際的MOS管,絕緣層相當(dāng)于一個(gè)電阻無(wú)限大的絕緣體,其中沒(méi)有任何雜質(zhì)和缺陷。
題型:判斷題