問(wèn)答題注入離子在耙內(nèi)的能量損失的過(guò)程?
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題半導(dǎo)體工藝技術(shù)的主要摻雜工藝包括哪兩種?
2.問(wèn)答題雜質(zhì)在硅中的擴(kuò)散方式有哪些?
3.問(wèn)答題二氧化硅結(jié)構(gòu)中的氧原子可分為哪幾種?
4.問(wèn)答題什么是外延層?為什么在硅片上使用外延層?
5.問(wèn)答題自摻雜效應(yīng)與互擴(kuò)散效應(yīng)
最新試題
MOS管的閾值電壓是漏源之間的導(dǎo)電溝道出現(xiàn)強(qiáng)反型時(shí)的最小柵極電壓,即半導(dǎo)體的表面勢(shì)大于費(fèi)米勢(shì)時(shí)的柵極電壓。
題型:判斷題
N型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
題型:判斷題
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
題型:填空題
P溝增強(qiáng)型MOS管存在著一個(gè)柵極截止電壓。
題型:判斷題
MOS管的轉(zhuǎn)移特性曲線指的是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。
題型:判斷題
柵極材料和半導(dǎo)體襯底材料的功函數(shù)差會(huì)影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
當(dāng)p溝耗盡型MOS管處于飽和工作區(qū)時(shí),漏極將失去對(duì)漏源電流的控制能力。
題型:判斷題
()是最早實(shí)現(xiàn)提純和完美晶體生長(zhǎng)的半導(dǎo)體材料。
題型:填空題
理想的MOS管其柵極電壓只會(huì)落在絕緣層和半導(dǎo)體襯底表面層上,柵極分壓占比小于50%。
題型:判斷題
p型襯底材料的MOS管,其半導(dǎo)體的摻雜濃度增大,閾值電壓隨之增大。
題型:判斷題