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問答題干法刻蝕有哪幾種？相應的內(nèi)容是什么？

1.問答題什么是干法刻蝕？什么是濕法刻蝕？比較二者的優(yōu)缺點。

2.問答題光刻的本質(zhì)是什么？

光刻就是將掩膜版（光刻版）上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導體襯底表面的對光輻照敏感的薄膜材料（光刻膠）上去的工藝過程。

3.問答題最早應用在半導體光刻工藝中的光刻膠是哪種膠？

負光刻膠

4.問答題什么是負性光刻？正性光刻？

5.問答題根據(jù)成像結(jié)果的不同，光刻膠可分為哪兩種類型，其中哪種成本較低且應用較早？

正光刻膠和負光刻膠；負光刻膠。