最新試題
摻雜后,退火的目的是()。
消除鳥嘴效應的方法有()。
光刻工藝的設備核心是()。
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關?()
CMP的設備構成包括()。
鳥嘴效應造成的不良影響有()。
當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
目前制備SOI材料的主流技術有幾種?()
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
摻雜后退火時間一般在()。