多項選擇題消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

A.選擇合適的掩蔽膜
B.在氧化前，將窗口處的硅腐蝕掉深度，再進行局部氧化
C.退火
D.高壓氧化工藝


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1.單項選擇題濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

A.95度
B.90度
C.80度
D.75度

4.單項選擇題如下哪個選項不是半導(dǎo)體器件制備過程中的主要污染物？（）

A.化學(xué)物質(zhì)
B.金屬離子
C.融解的氧氣
D.細菌

5.單項選擇題目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）

A.注氧隔離法
B.智能剝離法
C.鍵合再減薄技術(shù)
D.以上都是