掩模尺寸和晶圓尺寸相同，并直接與光刻膠膠層接觸進行曝光。
它是一種冷壁工藝，只要將襯底控制到一定溫度就行了
減少輸出輸入之間的電磁干擾，尤其是對于小信號高增益放大器特別重要，設計不當會引起不希望的反饋，造成電路自激
