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問(wèn)答題解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

光刻膠顯影是指用化學(xué)顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域，其主要目的是把掩膜版圖形準(zhǔn)確復(fù)制到光刻膠中。

1.問(wèn)答題給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

2.問(wèn)答題光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？

增大了曝光場(chǎng)，可以獲得較大的芯片尺寸，一次曝光可以多曝光些芯片，它還具有在整個(gè)掃描過(guò)程調(diào)節(jié)聚焦的能力。

3.問(wèn)答題解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問(wèn)題？

4.問(wèn)答題例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

5.問(wèn)答題描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。

減少曝光光源的波長(zhǎng)對(duì)提高分辨率非常重要，波長(zhǎng)的越小圖像的分辨率就越高圖像就越精確。