最新試題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型:問答題
解釋離子束擴展和空間電荷中和。
題型:問答題
例出光刻的8個步驟,并對每一步做出簡要解釋。
題型:問答題
干法刻蝕的目的是什么?例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么?
題型:問答題
刻蝕工藝有哪兩種類型?簡單描述各類刻蝕工藝。
題型:問答題
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么?
題型:問答題
解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機理和物理機理。
題型:問答題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么?
題型:問答題
什么是硅化物?難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么?
題型:問答題
什么是結(jié)深?
題型:問答題