最新試題
解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？
題型：問答題
刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。
題型：問答題
離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
題型：問答題
描述電子回旋共振（ECR）。
題型：問答題
哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。
題型：問答題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？
題型：問答題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
題型：問答題
描述化學(xué)機械平坦化工藝。
題型：問答題
例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。
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解釋離子束擴展和空間電荷中和。
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