問答題光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
您可能感興趣的試卷
最新試題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}
描述電子回旋共振(ECR)。
題型:?jiǎn)柎痤}
解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型:?jiǎn)柎痤}
干法刻蝕的目的是什么?例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深?
題型:?jiǎn)柎痤}
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處?
題型:?jiǎn)柎痤}
刻蝕工藝有哪兩種類型?簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
題型:?jiǎn)柎痤}