最新試題
描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型:問答題
解釋什么是暗場(chǎng)掩模板?
題型:問答題
哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅?描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。
題型:問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型:問答題
例出光刻的8個(gè)步驟,并對(duì)每一步做出簡要解釋。
題型:問答題
例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
題型:問答題
什么是硅化物?難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么?
題型:問答題
離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題
描述RF濺射系統(tǒng)。
題型:問答題
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低?高選擇比意味著什么?
題型:問答題