問答題解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

參考答案： 正性光刻把與掩膜版上相同的圖形復制到硅片上，負性光刻把與掩膜版上圖形相反的圖形復制到硅片表面，這兩種基本工藝的主要區(qū)別在...