問答題解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的?掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題?
您可能感興趣的試卷
最新試題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:問答題
例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。
題型:問答題
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的?掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題?
題型:問答題
例出光刻的8個(gè)步驟,并對每一步做出簡要解釋。
題型:問答題
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型:問答題
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型:問答題
解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
題型:問答題
解釋什么是暗場掩模板?
題型:問答題
解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別?為什么正膠是普遍使用的光刻膠?最常用的正膠是指哪些膠?
題型:問答題
離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題