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判斷題雖然直至今日我們?nèi)云毡椴捎脭U散區(qū)一詞，但是硅片制造中已不再用雜質(zhì)擴散來制作pn結(jié)，取而代之的是離子注入。

1.判斷題柵氧一般通過熱生長獲得。

2.判斷題硅上的自然氧化層并不是一種必需的氧化材料，在隨后的工藝中要清洗去除。

3.判斷題二氧化硅是一種介質(zhì)材料，不導電。

4.判斷題暴露在高溫的氧氣氛圍中，硅片上能生長出氧化硅。生長一詞表示這個過程實際是消耗了硅片上的硅材料。

5.判斷題當硅片暴露在空氣中時，會立刻生成一層無定形的氧化硅薄膜。