問答題說(shuō)明影響氧化速率的因素。
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解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
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描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
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描述電子回旋共振（ECR）。
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例出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
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例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
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在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？
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定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
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解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
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解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？
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