最新試題
在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么?
題型:問答題
解釋什么是暗場掩模板?
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例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
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離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:問答題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
題型:問答題
什么是阻擋層金屬?阻擋層材料的基本特征是什么?哪種金屬常被用作阻擋層金屬?
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描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。
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例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
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什么是結(jié)深?
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