最新試題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么?
題型:問答題
刻蝕工藝有哪兩種類型?簡單描述各類刻蝕工藝。
題型:問答題
離子源的目的是什么?最常用的離子源是什么?
題型:問答題
定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率?
題型:問答題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低?
題型:問答題
描述電子回旋共振(ECR)。
題型:問答題
敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。
題型:問答題
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。
題型:問答題
什么是阻擋層金屬?阻擋層材料的基本特征是什么?哪種金屬常被用作阻擋層金屬?
題型:問答題
光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處?
題型:問答題