單項選擇題正常凝固是最寬熔區(qū)的區(qū)域提純,在進行第一次熔化過后,能不能進入第二次提純這個階段().
A、能
B、不能
C、不確定
D、有時可以,有時不可以
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1.單項選擇題當晶體生長的較快,內(nèi)坩堝中雜質(zhì)量變少,晶體的電阻率().
A.上升
B.下降
C.不變
D.不確定
2.單項選擇題制備單晶硅薄膜方面的主要工藝方法是().
A.汽-固
B.液-固
C.固-固
D.汽-液
3.單項選擇題測量硅中氧濃度常用的方法是().
A.帶電粒子活化法
B.熔化分析法
C.離子質(zhì)譜法
D.紅外光譜分析法
4.單項選擇題下列鑄造多晶硅的制備方法中,()沒有坩堝的消耗,降低了成本,同時又可減少雜質(zhì)污染長度。
A.布里曼法
B.熱交換法
C.電磁鑄錠法
D.澆鑄法
5.單項選擇題列多晶硅生長過程中需要通入氬氣做保護氣的是().
A.加熱
B.化料
C.晶體生長
D.冷卻
最新試題
實際的MOS管,絕緣層相當于一個電阻無限大的絕緣體,其中沒有任何雜質(zhì)和缺陷。
題型:判斷題
柵極材料與半導體材料的功函數(shù)差會因半導體材料的摻雜濃度變化而變化。
題型:判斷題
MOS管閾值電壓的單位是eV。
題型:判斷題
1947年,()等人制造了第一個晶體管。
題型:填空題
氧化鋁(Al2O3)的介電常數(shù)一般低于氮化硅(Si3N4)的介電常數(shù)。
題型:判斷題
半導體具有的負的溫度系數(shù)的發(fā)現(xiàn)年份是()年。
題型:填空題
MOS型場效應晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關(guān)的。
題型:判斷題
柵極材料和半導體襯底材料的功函數(shù)差會影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
P溝增強型MOS管存在著一個柵極截止電壓。
題型:判斷題
MOS管的閾值電壓與絕緣柵層的雜質(zhì)濃度無關(guān)。
題型:判斷題