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浸泡式蝕刻通常使用添加了過硫酸鹽或過氧化氫的硫酸作為蝕刻液。
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在濕法蝕刻中,側(cè)蝕是不可避免的,所以鍍層突沿總是存在的。
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側(cè)蝕和增寬的幅度越大,鍍層突沿就越嚴(yán)重,精密導(dǎo)線制作的可靠性就越得不到保證。
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鍍層增寬可以完全避免。
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在印制板的蝕刻操作中,希望有較高的蝕刻系數(shù)。
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在蝕刻過程中,添加某些添加劑可以降低側(cè)蝕程度。
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側(cè)蝕程度的大小與蝕刻液的種類、組成和所使用的蝕刻工藝及設(shè)備有關(guān)。
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濕法蝕刻時(shí)蝕刻液的腐蝕是各向同性的,腐蝕發(fā)生在和溶液接觸的各個(gè)方面。
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側(cè)蝕情況是可以完全避免的。
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印制電路板中的圖形蝕刻是指用化學(xué)溶液去掉銅箔而得到所需的電路圖形的過程。
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蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。
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