最新試題
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）
題型：單項選擇題
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
題型：多項選擇題
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）
題型：單項選擇題
常壓的硅外延方法有（）。
題型：多項選擇題
硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。
題型：單項選擇題
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是（）。
題型：多項選擇題
摻雜后，退火的目的是（）。
題型：多項選擇題
進行溝槽填充常用的金屬材料是（）。
題型：單項選擇題
硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）
題型：單項選擇題
CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。
題型：多項選擇題