最新試題
描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
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描述電子回旋共振（ECR）。
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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
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什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
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解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問(wèn)題？
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解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
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描述RF濺射系統(tǒng)。
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光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？
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離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？
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干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么？
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