單項(xiàng)選擇題把半導(dǎo)體級硅的多晶硅塊,轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過程,稱作()。生長后的單晶硅被稱為()。
A.晶體生長、硅錠
B.硅錠、晶體生長
C.晶體生長、晶胞
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1.單項(xiàng)選擇題在晶體材料中,對于長程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是()。
A.晶胞
B.晶長
C.晶塊
2.多項(xiàng)選擇題從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
A.碳加熱
B.生產(chǎn)三氯硅烷
C.西門子反應(yīng)
3.多項(xiàng)選擇題BiCMOS技術(shù)就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動能力。
A.CMOS
B.雙極技術(shù)
C.nMOS
4.多項(xiàng)選擇題MOS場效應(yīng)管(MOSFET)在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受,從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。
A.nMOS(n溝道)
B.pMOS(p溝道)
C.mMOS(m溝道)
5.單項(xiàng)選擇題由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容,這種電容稱為()。
A.寄生電容
B.共生電容
C.儲存電容
最新試題
利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個(gè)MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
題型:問答題
根據(jù)圖,給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
題型:問答題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。
題型:問答題
版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么?
題型:問答題
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。
題型:多項(xiàng)選擇題
在晶體材料中,對于長程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是()。
題型:單項(xiàng)選擇題
說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。
題型:問答題
版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么?
題型:問答題
設(shè)計(jì)一個(gè)CMOS差分放大器電路,寫出其對應(yīng)的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。
題型:問答題
由硅片生產(chǎn)的半導(dǎo)體產(chǎn)品,又被稱為()。
題型:多項(xiàng)選擇題