單項(xiàng)選擇題下列哪個(gè)雜質(zhì)允許在硅中存在的？（）

A.Cu
B.C
C.Na
D.O


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1.多項(xiàng)選擇題微電子產(chǎn)業(yè)的特點(diǎn)有（）。

A.對(duì)材料及產(chǎn)品可靠性要求高
B.制造環(huán)境要求高
C.商品壽命短
D.技術(shù)含量高，人才需要大

2.多項(xiàng)選擇題發(fā)明集成電路的公司有（）。

A.英偉達(dá)
B.仙童半導(dǎo)體
C.英特爾
D.德州儀器

3.單項(xiàng)選擇題麒麟980芯片采用的工藝水平是（）。

A.10nm
B.5nm
C.7nm
D.9nm

4.單項(xiàng)選擇題?形成B的超淺結(jié)摻雜（劑量為QB）時(shí)，為了避免溝道效應(yīng)可否先注入銻（劑量為QSb）再注入硼？實(shí)際注入了多少硼？（）

A.可以，實(shí)際注硼：QB
B.不可以
C.可以，實(shí)際注硼：QB+QSb
D.可以，實(shí)際注硼：QB-QSb