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每日一練
章節(jié)練習
半導體芯片制造工半導體制造技術(shù)問答題每日一練(2019.05.04)
來源：考試資料網(wǎng)
1.問答題
簡述外延薄膜的生長過程，其最顯著的特征是什么？
參考答案：
生長過程：①傳輸：反應(yīng)物從氣相經(jīng)邊界層轉(zhuǎn)移到Si表面；②吸附：反應(yīng)物吸附在Si表面；③化學反應(yīng)：在Si表面進行化學反應(yīng)，...
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2.問答題
根據(jù)原理分類，干法刻蝕分成幾種？各有什么特點？
參考答案：
干法刻蝕是采用等離子體進行刻蝕的技術(shù)，根據(jù)原理分為濺射與離子銑（物理）、等離子刻蝕（化學）、反應(yīng)離子刻蝕（物理+化學）。...
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3.問答題
什么是兩步擴散工藝，其兩步擴散的目的分別是什么？
參考答案：
實際的擴散溫度一般為900-1200℃，在這個溫度范圍內(nèi)，雜質(zhì)在硅中的固溶度隨溫度變化不大，采用恒定表面源...
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4.問答題
在干法刻蝕的終點檢測方法中，光學放射頻譜分析法最常見，簡述其工作原理和優(yōu)缺點。
參考答案：
光學放射頻譜分析是利用檢測等離子體中某種波長的光線強度變化來達到終點檢測的目的。光強的變化反映了等離子體中原子或分子濃度...
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5.問答題
根據(jù)曝光方式的不同，光學光刻機可以分成幾類？各有什么優(yōu)缺點？
參考答案：
根據(jù)曝光方式不同光學光刻機主要分為三種：接觸式，接近式，投影式。接觸式：接觸式光刻機是最簡單的光刻機，曝光時，掩模壓在涂...
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